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钼钽靶材
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産品介紹
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産品介紹
钼钽靶材是一種用于物理研究和半導體制造等領域的重要材料。
钼(Mo):钼是一种过渡金属元素,具有优异的高温性能和化学稳定性。 在钼钽靶材中,钼通常是主要的组成元素之一。
钽(Ta):钽是一種稀有金屬元素,具有極高的熔點和化學穩定性,是钼钽靶材的另一重要組成元素。
物理性能
高熔點:钼和钽都具有極高的熔點,分別爲2623°C和3017°C,因此钼钽靶材具有出色的耐高溫性能。
高密度:钼和钽都具有較高的密度,钼的密度約爲10.2克/立方厘米,钽的密度約爲16.7克/立方厘米,因此钼钽靶材具有較高的質量吸收能力。
應用領域
物理研究:钼钽靶材常用于物理研究領域,如核物理實驗、粒子加速器、等離子體物理等,用于産生高能量的離子束或電子束。
半導體制造:在半導體制造工藝中,钼钽靶材常用于物理氣相沈積(PVD)或磁控濺射(sputtering)等過程中,用于沈積或鍍覆薄膜,制備電子器件、光學器件或塗層材料。
制備方法
粉末冶金法:钼和钽粉末按一定比例混合後,經過壓制、燒結等工藝制備成塊狀或片狀的钼钽靶材。
熔煉法:钼和钽可以通過真空熔煉或等離子弧熔煉等方法制備成塊狀或片狀的钼钽靶材。
特殊合金
有時,爲了改善靶材的特性,钼钽靶材可能會添加其他元素,如鉻(Cr)、铌(Nb)等,以調節材料的性能和應用範圍。
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